10.06.2021

2021.gada 31.maijā tika pabeigta pētniecības projekta FUNKCIONĀLO PLĀNO KĀRTIŅU UZNEŠANAS PROCESU IZPĒTE ĶĪMISKO UN VAKUUMA TEHNOLOĢISKO PROCESU IETVAROS – 1. KĀRTA realizācija. Kopš 2019.gada 1.marta pētniecības projekta gaitā tika pētīta jauno tehnoloģiju savietojamība ar liela izmēra substrāta pārklāšanu rūpnieciskā vidē, kas sniedza iespēju būtiski uzlabot un modificēt esošos  kā arī  ieviest jaunus tehnoloģiskos mezglus vakuuma  pārklājuma rūpnieciskajās iekārtās.

Pētniecības projekts fokusējās uz barošanas avotu ilgtermiņa darbības stabilitātes izpēti un iespējām uzlabot tehnoloģisko procesu, koriģējot magnetronu magnētu sistēmas magnētiskā lauka sadalījumu pa mērķa garumu. Iegūtais efektivitātes pieaugums reaktīvo putināšanas procesu uzlabošanai sastādīja 25%,  salīdzinājumā pret esošo tehnoloģiju. Pētījuma rezultāts tiks izmantots,  lai pamatotu būtiskas investīcijas izstrādātās tehnoloģijas ieviešanai visās vakuuma iekārtas uzputināšanas kamerās.

18.03.2021

Ir apkopoti rezultāti par uznesto plāno kārtiņu īpašībām un izvērtēta jauno barošanas avotu ietekme uz ražošanas procesu. Izpētīta plazmas procesu monitorēšanas un automātiskā kontroles sistēmas funkcionalitāte un savietojamība ar tehnoloģiskiem procesiem. Ir uzsākta gala validācija ražošanas tehnoloģisko parametru modifikācijai, lai ieviestu jaunas ražošanas normas un sākts darbs gala atskaites izstrādē.

14.12.2020

Pētījuma septītajā ceturksnī   tika veikta izvēlētā tehnoloģiskā risinājuma gala validācija un ilgtermiņa stabilitātes izvērtēšana. Tika izvērtēta plazmas emisijas monitorēšanas sistēmas stabilitāte un savietojamība ar esošo magnetronu putināšanas procesu. Tika pilnībā pabeigta  barošanas avotu modifikācija un visām barošanas avotu pozīcijām uzstādīti papildus elementi un atjaunota programmatūra, lai iespējotu to pilno funkcionalitāti.

Turpinot iesākto, tiek veikta gala validācija izvēlētajam tehnoloģiskajam risinājumam stabila un pozitīva rezultāta sasniegšanai.

11.09.2020

Pētījuma sestajā ceturksnī pilnībā tika pabeigta barošanas avotu modifikācija un visām to pozīcijām ir uzstādīti papildus elementi un atjaunota programmatūra, lai iespējotu pilno funkcionalitāti. Šobrīd jaunā tipa barošanas avoti tiek izmantoti 4  atsevišķās pozīcijās, lai noteiktu to ilgtermiņa stabilitāti dažādu magnetronu putināšanu pozīciju konfigurācijās un pārbaudītu uznesto plāno slāņu īpašības gan standarta produkcijas apstākļos, gan jauno produktu izstrādes stadijā.
Turpinot iesākto, tiek veikta gala validācija izvēlētajam tehnoloģiskajam risinājumam stabila un pozitīva rezultāta sasniegšanai.
 
Turpmākajos pētījuma posmos tiks veikta gala validācija izvēlētajam tehnoloģiskajam risinājumam stabila un pozitīva rezultāta sasniegšanai.

Sestajā ceturksnī pētījuma gaita tika pārtraukta uz diviem mēnešiem un pētījuma kopējais izpildes laiks atbilstoši tika pagarināts līdz 2021.gada 28.februārim. 

12.06.2020

Projekta realizācijas piektajā ceturksnī, kas noslēdzās 31.05.2020, ir izstrādātās izmaiņas bi-polāro barošanas avotu uzlabojumiem un tās tiek pakāpeniski ieviestas. Līdz ceturkšņa beigām ir veikta modifikācija, kas, atbilstoši plānam, atļauj uzputināt visu SiO2 plāno slāni ar optimizētiem procesa parametriem. Tika izpētītas šī slāņa optiskās un fizikālās īpašības salīdzinājumā ar iepriekš iegūtajiem rezultātiem. Tika atrasti barošanas avotu vadības sistēmas parametru optimālā konfigurācija, pēc vadības programmatūras uzlabošanas un augstfrekvences filtru uzstādīšanas. Primārie testi par ilgtermiņa stabilitāti un iegūto slāņu kārtiņu īpašībām ir pozitīvi.

Darbs turpinās pie atlikušo barošanas avotu modifikācijas, ko pilnībā pabeidzot, tehnoloģija tika validēta visās  vakuuma putināšanas iekārtas pozīcijās.

11.03.2020

2020 .gada 29.martā noslēdzās pētniecības projekta “Funkcionālo plāno kārtiņu uznešanas procesu izpēte ķīmisko un vakuuma tehnoloģisko procesu ietvaros – 1.kārta” ceturtais ceturksnis, kura laikā turpinājām meklēt risinājumu iegūto plāno kārtiņu vienmērības atkarībai no pieliktās jaudas. Atbilstoši plānotajam  sagatavojām un iesniedzām izmaiņas aktivitāšu plānā, kas pamatotas ar pētījuma gaitu un attīstības virzienu.

Vienlaicīgi, atbilstoši jau grozītajam aktivitāšu plānam ir realizēti turpmāk sekojoši darbi – Multi-parametru piedzīšanas rezultātā tika atrasts optimālais darba režīms ar īsiem Leoni kabeļiem un impulsa signāla aizturi µs diapazonā. Lai samazinātu MHz fonu sistēmā, tika izstrādāts DEMO barošanas avots ar RL filtriem, kas signāla formā likvidē harmonikas MHz diapazonā. Pēc ieviesto uzlabojumu ieviešanas kātiņu  vienmērība nav atkarīga no pieliktās jaudas, kas ļauj turpināt izpēti tās uzlabošanā modificējot magnētiskā lauka potenciālu putināšanas mērķu virsmas. Tiek turpināts darbs tehnoloģisko procesu validēšanai arī citās putināšanas pozīcijās un uzsākts darbs iegūto plāno kārtiņu īpašību izpētē un ilgtermiņa stabilitātes izvērtēšanai.

09.12.2019

2019.gada 30.novembrī noslēdzās pētniecības projekta “Funkcionālo plāno kārtiņu uznešanas procesu izpēte ķīmisko un vakuuma tehnoloģisko procesu ietvaros – 1.kārta” trešais ceturksnis, kura laikā tika meklēts risinājums iegūto plāno kārtiņu vienmērības atkarībai no pieliktās jaudas. Tika novērots, ka problēma ir aktuāla tikai silīcija oksīda reaktīvajos putināšanas procesos, kas nav atkarīga no putināšanas pozīcijas iekārtā vai tās ģeometrijas. Tika noteikta jaudas, darba frekvences un barošanas signāla formas ietekme uz vienmērību. Secināts, ka pie augstākām darba frekvencēm sinusa signāla formas gadījumā efekts netiek novērots. Tas izpaužas tikai bipolāro barošanas avotu gadījumā, kur signāla forma ir taisnstūrveida. Tiek izvirzīta hipotēze par problēmas cēloni kā augstās frekvenču harmonikas (MHz rajonā), kas piemīt taisnstūrveida signāla modulēšanā, bet nav klātesošas tīra sinusa vaida signāla formā.

Tālāko pētījumu laikā, kopā ar barošanas avotu ražotājiem, tiek meklēti risinājumi, kas samazina augsto frekvenču fluktuāciju rašanos signāla formas modulācijā. Tiek pārbaudīti gan iekšējie barošanas avotu loģiskie signālu formas modulācijas parametri, gan fiziski jaudas kabeļu pieslēgumu parametri. Papildus tiek izvērtēta opcija modificēt barošanas avotu tehnisko izpildījumu un dažādu augsto frekvenču filtru uzstādīšana.

Tālāko aktivitāšu plānos ir validēt atrasto risinājumu ilgtermiņa stabilitāti uz iegūtā pārklājuma vienmērību un iespēju to ieviest visās silīcija oksīda putināšanas pozīcijās.

16.09.2019

2019.gada 31.augustā noslēdzās pētniecības projekta “Funkcionālo plāno kārtiņu uznešanas procesu izpēte ķīmisko un vakuuma tehnoloģisko procesu ietvaros – 1.kārta” otrais ceturksnis, kura laikā

Tika veikts salīdzinājums dažādu tipa barošanas avotu ietekmei uz putināšanas procesu keramisko un metālisko mērķu gadījumā. Tika atrasti barošanas avotu kritiskie parametri metālisko mērķu darbības pagarināšanai noslēgta pētījuma daļa par bipolāro DC un AC barošanas avotu salīdzinājumu un apkopoti tā rezultāti, kā arī tika salīdzināts putināšanas process pie modificētas putināšanas pozīciju ģeometrijas.

2019.gad 26.februārī  GroGlass parakstīja līgumu ar SIA VMKC par dalību

Un pētniecības projekta “Funkcionālo plāno kārtiņu uznešanas procesu izpēte ķīmisko un vakuuma tehnoloģisko procesu ietvaros – 1.kārta”, kas tiks īstenots valsts atbalsta programmas „Izaugsme un nodarbinātība” 1.2.1.specifiskā atbalsta mērķa „Palielināt privātā sektora investīcijas P&A” 1.2.1.1.pasākuma „Atbalsts jaunu produktu un tehnoloģiju izstrādei kompetences centru ietvaros” 4.kārtā. Projekta plānotais īstenošanas periods ir no 01.03.2019 līdz 31.12.2020

15.06.2019

2019.gada 31.maijā noslēdzās pētniecības projekta “Funkcionālo plāno kārtiņu uznešanas procesu izpēte ķīmisko un vakuuma tehnoloģisko procesu ietvaros – 1.kārta” pirmais ceturksnis, kura laikā tika veikti pētījumi uz eksperimentālās vakuuma putināšanas iekārtas ar dažādu ražotāju  AC un bipolāriem DC tipa testa barošanas avotiem. Tika salīdzināta barošanas avotu funkcionalitāte un saderība ar ražošanas procesu pie dažādām darba frekvencēm un nominālajām jaudām.  Pētījuma gaitā tika arī salīdzināta standarta keramisko materiālu putināšanas režīmu ietekme uz iegūto plāno kārtiņu īpašībām pret modificētās putināšanas pozīcijas iegūtajiem.